Назад
Всегда рады ответить на все ваши вопросы
materials@ostec-group.ru
Документация

Описание

Duroptix™(DuPont) XR-1541 – это негативный резист для электронной (e-beam) литографии, позволяющий получать разрешение до 6 нм. Используется для производства фотошаблонов и микросхем нового поколения. Представляет собой материалы высокой чистоты (<10 частиц металлов на миллиард). Резисты поставляются в различной концентрации для получения толщин от 30 до 180 нм в едином цикле. Другие варианты доступны под заказ. Дополнительно поставляются разбавители от DuPont для регулирования вязкости.

Отличительные особенности:

  • высокая чистота;
  • устойчивость к травителям;
  • высокое разрешение;
  • проявление в водных растворах.

Основные характеристики

  • Минимальный размер элемента 6 нм
  • Коэффициент преломления 1,41
  • Концентрация примесей металлов < 10 ppb
  • Толщина нанесения – 2% 30 - 60 нм
  • Толщина нанесения – 4% 55 - 115 нм
  • Толщина нанесения – 6% 85 - 180 нм
  • Техническое описание: Duroptix™(Dow Corning )XR-1541_TDS.pdf

Технология использования

  • Глубина проникновения электронного пучка 35 – 175нм
  • Энергия электронного пучка 100 – 200 кэВ
  • Энергия электронного пучка 400 – 700 мкКл/см2
  • Температурный отжиг (рекомендуется) 350оC в атмосфере N2, для увеличения контраста

Условия поставки

Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.

Упаковка, хранение и транспортировка

Duroptix™(DuPont) XR-1541 поставляется в бутылках 125 и 250 мл. Хранить при температуре +50С. Срок годности 6 месяцев.

Сравнительная таблица для выбора резистов

Остались вопросы?
Задайте их, и мы ответим в ближайшее время
Задать вопрос

Вы смотрели