Товар
Описание
Характеристики

Фоторезисты с высоким разрешением

Создание субмикронной топологии

Технология:

Описание

Данный тип фоторезистов специально разработан для создания топологического рисунка с субмикронными топологическими нормами. Эти материалы отличаются повышенной чистотой и степенью фильтрации механических частиц, поскольку наличие загрязнений может существенно снизить выход годных устройств с пластины.

Условия поставки

Резисты с высоким разрешением поставляются под заказ

Упаковка

Фоторезисты упакованы в бутылки и банки различного объёма

Хранение и транспортировка

Срок годности и условия хранения резистов с высоким разрешением указаны в техническом описании на данные продукты. Заморозка резистов недопустима.

Чтобы купить фоторезисты по доступным ценам от нашей компании - позвоните по телефону или заполните форму обратной связи на сайте.

Скрыть

Читать полностью

Характеристики

Резист	Толщина, мкм	Длина волны экспонирования	Проявитель	Сниматель
Позитивные фоторезисты
AZ MiR 701	1-1,5	i и g линии	AZ 726 MIF, AZ 351B и др.	Cтанд. сниматели
AZ ECI 3000	1-5	i,h,g линии	TMAH, KOH и т.п	AZ 100 Remover и др.
Dow MEGAPOSIT SPR 660	0,8-1,5	i-линия	MF-20A series, MF-CD-26, 0.24-0.26N	Microposit remover 1165
Dow MEGAPOSIT SPR 955 CM	0,7-3,0	i-линия	MF-CD-26, 0.24-0.26N	Cтанд. сниматели
Dow UV 26	0,85-3,0	ГУФ	MF-20A series, MF-CD-26, 0.26N	Microposit remover 1165
Dow UV 5	0,8	ГУФ	MF-20A series, MF-CD-26, 0.26N	Microposit remover 1165
Dow UV 6	0,6	ГУФ	MF-20A series, MF-CD-26, 0.26N	Microposit remover 1165
Dow UV 210GS	0,3-0,6	ГУФ	MF-20A series, MF-CD-26	Microposit remover 1165
Dow UV 110	0,38	ГУФ	MF-20A series, MF-CD-26	Cтанд. сниматели
Dow UV 60	0,58-0,75	ГУФ	MF-20A series, MF-CD-26	Cтанд. сниматели
Dow ULTRA-I-123	0,8-1,0	i-линия	MF-CD-26, 0.26N	Microposit remover 1165
Allresist AR-P 3100	0,12-1,0	i и g линии	AR 300-35, AR 300-47	AR 300-76, AR 300-73
Allresist AR-P 3500	1,4-2,0	i и g линии	AR 300-26, AR 300-44	AR 300-76
Allresist AR-P 3700/3800	1,4	i и g линии	AR 300-47, AR 300-26	AR 300-76, AR 600-71
Негативные фоторезисты
Dow UVN 30	0,5	ГУФ	MF-CD-26, 0.26N	Microposit remover 1165
Allresist AR-N 4200	1,8	ГУФ, i-линия	AR 300-47, AR 300-26	AR 300-76, AR 600-71
Allresist AR-N 4300	1,4	i и g линии	AR 300-475	AR 300-76, AR 300-72