Товар
Описание

Резисты для электронной литографии

PMMA, сополимеры и CAR

Технология:

Описание

Резисты для электронной литографии традиционно применяются в производстве фотошаблонов, а также в прототипировании микро- и наноэлектронных устройств. Электронные резисты обычно позволяют получать структуры размерами до десятков нанометров.

Основные характеристики

Резист	Толщина плёнки, мкм	Другие методы экспонирования	Проявитель	Сниматель
Позитивные резисты
ALLRESIST AR-P 610	0,09-1,75	-	AR 600-50, AR 600-55	AR 300-70, AR 300-76
ALLRESIST AR-P 630-670 (PMMA)	0,09-1,87	-	AR 600-55, AR 600-56	AR 600-71, AR 300-76
ALLRESIST AR-P 6200	0,08-0,4	-	AR 600-546, 600-549	AR 600-71, AR 300-76, AR 300-73
ALLRESIST AR-P 6500	45-150	рентген, ГУФ	AR 600-51	AR 300-76
ALLRESIST AR-P 7400	0,6	i-, g-линии	AR 300-47	AR 600-71, AR 300-76
KAM PMMA	0,5-2,0	i-линия, ГУФ, рентген	NANO PMMA Developer	AR 600-71, AR 300-76, AR 300-72
KAM PMGI/LOR	0,5-5,0	i-, g-. h-линии, рентген, ГУФ	0.26N MIF, 0.24N MIF, MIB
Негативные резисты
ALLRESIST AR-N 7500	0,4; 0,1	-	AR 300-46, 300-47	AR 600-71, AR 300-76, AR 300-73
ALLRESIST AR-N 7520	0,4; 0,1	-	AR 300-47, AR 300-26	AR 600-71, AR 300-76, AR 300-73
ALLRESIST AR-N 7700	0,4; 0,1	-	AR 300-46, 300-26	AR 300-73, AR 300-76
ALLRESIST AR-N 7720	1,4; 0,25	-	AR 300-47, 300-26	AR 600-71, AR 300-73, AR 300-76
AZ nLOF 2000	1,5 — 20	i-линия	AZ 826mif	AZ^® 100 Remover
Microresist Technology ma-N 2400	0,5	ГУФ	ma-D 333, ma-D 532, MIF 726	ma-R 404
DuPont XR-1541	0,5	-	0.26 N TMAH

Условия поставки

Резисты для электронно-лучевой литографии поставляются под заказ

Упаковка

Фоторезисты упакованы в бутылки и банки различного объёма

Хранение и транспортировка

Срок годности и условия хранения резистов для электронной литографии указаны в техническом описании на данные продукты. Заморозка резистов недопустима.

Скрыть

Читать полностью

Остались вопросы?

Задайте их, и мы ответим в ближайшее время

Задать вопрос

Резисты для электронной литографии

Запросить цену