Регистрация Вспомнить пароль

AZ. Фоторезисты серий 1500/4000/6000/MIR/35ES/nLOF/nXT для оптической и электронной литографии

Материалы компании AZ представлены широкой номенклатурой фоторезистов и химии для литографии. AZ производит позитивные и негативные фоторезисты для процессов жидкостного и сухого травления, а также гальванического осаждения. Также доступны резисты для получения высокого разрешения и процессов обратной (взрывной) фотолитографии. Возможные варианты нанесения: центрифугирование, окунание, спрей.

Фоторезисты серии AZ 1500

Данная серия позитивных фоторезистов благодаря своей прекрасной адгезии отлично подходит для процессов сухого и жидкостного травления. Фоторезисты этой серии имеют различные значения вязкости, что позволяет как получать плёнки толщиной до 3 мкм, так и достигать субмикронных разрешений. Совместимость данных фоторезистов со всеми популярными проявителями и снимателями еще больше упрощает работу с ними.

Фоторезист AZ 1505 дает возможность достигать толщины плёнки около 500 нм и, как следствие, высокого разрешения, что позволяет использовать его для травления Cr при производстве фотошаблонов. Фоторезист AZ 1512 HS отличается высокой концентрацией фото-активного компонента, что обуславливает его высокую контрастность при толщине плёнки около 0,98 – 1,7 мкм. Отличительной особенностью фоторезиста AZ 1514 H является его улучшенная адгезия, обусловленная использованием специальных смол. Фоторезист по AZ 1518 позволяет добиться максимальной стабильности процесса жидкостного травления благодаря увеличенной толщине плёнки фоторезиста, которая в данном случае достигает 2,55 мкм.

Фоторезист AZ 111 XFS

Данный позитивный фоторезист обладает превосходной адгезией ко всем типам поверхностей, что делает его отличным выбором для процессов жидкостного травления. Он практически не прилипает к фотошаблону, что позволяет его использовать не только в контактной фотолитографии, но и при изготовлении печатных плат, электроосаждении и других процессах.

Фоторезисты серии AZ 4500

Позитивные фоторезисты данной серии (AZ 4533 и AZ 4562) отличаются большими толщинами получаемых плёнок и хорошей адгезией ко всем типам поверхностей, что обуславливает их применение для процессов жидкостного травления и осаждения.

Фоторезист AZ 4999

Данный фоторезист предназначен для нанесения аэрозольным распылением и отличается возможностью получения ровных однородных плёнок на сильно неоднородных поверхностях.

Обращаемый фоторезист AZ 5214 E

Фоторезист AZ 5214 E является обращаемым резистом высокого разрешения. Подходит для процессов обратной (взрывной) фотолитографии, где требуется отрицательный наклон стенок фоторезиста.

Фоторезисты серии AZ 6600

Фоторезисты данной серии отличаются улучшенной термической устойчивостью, а также высоким аспектным соотношением, что позволяет добиваться хороших результатов в процессах сухого травления при том, что разрешение может достигать субмикронных размеров.

Фоторезист AZ 9260

Фоторезисты серии AZ 9200 предназначены для получения высокого разрешения на плёнках большой толщины с аспектным соотношением 5 – 7.

Фоторезист PL 177

PL 177 – это универсальный позитивный фоторезист общего назначения, который может использоваться в производстве печатных плат. Подходит для получения относительно высокого разрешения и имеет синеватый цвет для облегчения инспекции. PL 177 может быть нанесён как центрифугированием, так и окунанием. При смешивании этого материала с растворителями можно получить определённые значения вязкости, требуемые для нанесения различными методами.

Фоторезист AZ MIR 701

AZ MIR 701 – это термически устойчивый позитивный фоторезист высокого разрешения, оптимизированный для получения субмикронных структур методом сухого травления. Может быть разбавлен для получения сверхвысоких разрешений.

Фоторезисты AZ 15 nXT и AZ 125 nXT

Толстые негативные фоторезисты AZ 15 nXT и AZ 125 nXT используется в основном для процессов электроосаждения из-за высокой устойчивости и отличной адгезии. Негативный профиль этих фоторезистов позволяет получать сужающиеся структуры. Не требуют задубливания после экспонирования и некоторых других промежуточных шагов.

Фоторезист AZ 40 XT

AZ 40 XT является химически усиленным, толстым, позитивным фоторезистом с отличной адгезией. Основная особенность резиста – плёнки даже толщиной несколько десятков микрометров не требуют регидрации, что позволяет существенно сэкономить время процесса.

Фоторезисты серии AZ nLOF 2000

Высокая температурная и химическая устойчивость, а также отрицательный наклон стенок делают данную серию негативных фоторезистов подходящей для обратной (взрывной) фотолитографии и других процессов, где необходима устойчивость к высоким температурам (до 250оС). Кроме того, резист может использоваться для электронной литографии.

Условия поставки

Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.

Упаковка, хранение и транспортировка

Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.

Доступные типы упаковок: 1-, 4-, 5- и 200-литровые контейнеры.

Сравнительная таблица для выбора резистов