Регистрация Вспомнить пароль

Microresist Technology. Резисты серий ma-P 1200/ma-N 400 и 1400/ormo для оптической, электронной и наноимпринтной литографии

Резисты компании Microresist Technology широко применяются для создания структур с помощью оптической, УФ и электронной литографии. Кроме того, имеются резисты для наноимпринтной (нанопечатной) литографии и органическо-неорганические гибридные полимеры для создания микро- и нанооптических структур.

Фоторезисты серии ma-P 1200

Позитивные фоторезисты серии ma-P 1200 используются в процессах жидкостного и сухого травления, в качестве маски для ионной имплантации, а также в процессе электроосаждения. Серия включает в себя следующие наименования: ma-P 1205 / 1210 / 1215 / 1225 / 1240 / 1275. Данные материалы отличает высочайшая стабильность рисунка в процессе жидкостного травления и в кислотных и щелочных ваннах при гальваническом осаждении. Отмечается высокая стабильность в процессах сухого травления (CHF3, CF4, SF6). Фоторезисты серии ma-P 1200 могут быть проявлены воднощелочными растворами и относительно легко удалены. Широкий спектр доступных вязкостей позволяет выбрать оптимальный фоторезист для получения желаемой толщины плёнки.

Фоторезисты серии ma-N 400 и ma-N 1400

Негативные фоторезисты серий ma-N 400 и ma-N 1400 созданы для производства МЭМС и обратной (взрывной) фотолитографии. Эти материалы демонстрируют высокую стабильность в процессах жидкостного и сухого травления, высокую температурную устойчивость (до 110оС для ma-N 400 и до 160оС для ma-N 1400); имеют настраиваемый профиль. Широкий спектр доступных вязкостей позволяет выбрать оптимальный фоторезист для получения желаемой толщины плёнки.

Электронный / ГУФ резист серии ma-N 2400

Негативный резист ma-N 2400 широко используется в микро- и наноэлектронике для создания и изменения структур в Si, SiO2, металлах и полупроводниках. Подходит для электронной литографии, фотолитографии в ГУФ, а также используется для создания штампа в технологии наноимпринтной литографии. Кроме того, обладает высокой термической и химической устойчивостью, что позволяет использовать его для процессов травления. Данный резист позволяет получать разрешения до 30 нм.

Резисты EpoCore и EpoClad для создания планарных волноводов

Резисты EpoCore и EpoClad используются для создания оптических планарных волноводов методами литографии. Данные материалы позволяют управлять коэффициентом преломления и имеют высокий коэффициент пропускания на длине волны 850 нм. Устойчивы к высоким температурам и давлениям.

Полимеры OrmoStamp для наноимпринтной литографии

Данные полимеры используются в процессе наноимпринтной литографии. Наносятся на подложку традиционными методами. Доступен вариант резиста для дозирования из шприца. Отверждаются с помощью температуры или воздействия УФ излучения. Устойчивы к воздействию различных травителей. Позволяют создавать наноразмерные структуры.

Органическо-неорганические гибридные полимеры Ormocore и Ormoclad

Полимеры Orcmocore и Ormoclad используются для создания планарных для микро- и нанооптических структур и оптических волокон. Ormocore является оптически прозрачным фоточувствительным материалом, из которого формируется оптоволоко, OrcmoClad-основание для создания оптоволокна.

Условия поставки

Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.

Упаковка, хранение и транспортировка

Срок годности 6 месяцев. Хранить в упаковке от производителя вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.

Сравнительная таблица для выбора резистов