Регистрация Вспомнить пароль

Полировальные суспензии Ferro

Процесс химико-механической полировки (ХМП) находит широчайшее применение в микроэлектронике. ХМП используется как для производства пластин Si и других полупроводниковых материалов, так и для планаризации поверхностей различных слоёв в производстве микросхем, МЭМС, и других приборов. Изоляция транзисторов диэлектриком, подготовка подложек для эпитаксии, трёхмерная интеграция и создание многоуровневой металлизации — это лишь небольшой перечень технологических блоков, где ХМП является необходимым. Группа компаний Остек поставляет широкий ассортимент суспензий для ХМП, производимых компанией Ferro.

Основные характеристики

Суспензия

Основа

Применение

Средний диаметр частиц, мкм

Ferro SRS-2080

ХМП сапфира

2,0

Ferro TruPlane 1983

Al2O3

ХМП сапфира

0,4

Ferro TruPlane 2000

Al2O3

ХМП сапфира

0,2

Ferro TruPlane 2066

ХМП сапфира

0,2

Ferro TruPlane 8272

CeO2

ХМП SiO2

0,14

Ferro SRS-1739

CeO2

ХМП SiO2 (STI)

0,12

Ferro SRS-2067

CeO2

ХМП SiO2

0,13

Ferro SRS-2085

CeO2

ХМП SiO2

Ferro SRS-2092

CeO2

ХМП SiO2

0,13

Ferro TruPlane 1631

CeO2

ХМП SiO2

0,13

Условия поставки

Полировальные суспензии поставляются под заказ

Упаковка

Полировальные суспензии поставляются в банках, вёдрах и бочках различного объёма.

Хранение и транспортировка

Срок годности полировальных суспензий составляет 12 месяцев при комнатной температуре.