Регистрация Вспомнить пароль

Фоторезисты для сухого травления

При реактивно-ионном травлении (РИТ) резистивные маски подвергаются бомбардировке ионами, что приводит к их существенному нагреву. Если температура фоторезиста превышает критическое значение (обычно около 120°С), то начинается его оплавление, что приводит к изменению ширины линий формируемой структуры. Кроме того, при увеличении температуры происходит сшивание полимеров, входящих в состав резиста, что ведёт к проблемам при его снятии после травления. Группа компаний Остек поставляет широкий спектр специализированных резистов для РИТ. Подобные резисты обладают повышенной температурной стабильностью, что препятствует оплавлению, также их состав оптимизирован таким образом, чтобы избежать проблем со снятием.

Основные характеристики

Резист

Толщина, мкм

Длина волны экспонирования

Проявитель

Сниматель

Позитивные фоторезисты

Allresist AR-P 3200

5-10

i-, g-линии; broadband

AR 300-26, AR 300-35

AR 300-76, AR 600-71

Allresist AR-P 3500 /3500T

1,4-2,0

i-, g-линии; broadband

AR 300-26, T: AR 300-44

AR 300-76

AZ MiR 701

1-1,5

i и g линии

AZ 726 MIF, AZ 351B и др.

Cтанд. сниматели

Microresist Technology Technology ma-P 1200

0,5-8

i,h,g линии

воднощелочные растворы

Cтанд. сниматели

Dow MEGAPOSIT SPR 220

1,2-7

i-, g-линии; broadband

MF-20A, MF-CD-26

Cтанд. сниматели

Dow MEGAPOSIT SPR 350

0,8-1,3

i-, g-линии; broadband

MF-20A, MF-CD-26

Cтанд. сниматели

Dow MEGAPOSIT SPR 700

1,0-1,8

i-, g-линии; broadband

MF-20A, MF-CD-26

Cтанд. сниматели

Обращаемые фоторезисты

Microchemicals TI 35 ES

3-5

i,h,g линии

AZ 826 MIF, AZ 400K

AZ 100 Remover

Негативные фоторезисты

Allresist AR-N 4400 (CAR44)

5-10

i-, g-линии; broadband

AR 300-47

AR 600-71, AR 600-70

Microchem SU-8

0,5-150

350-400 нм

SU-8 developer

Remover PG

Microchem KMPR 1000

8-100

350-400 нм

TMAH, SU-8 developer и др.

Remover PG

Microresist Technology ma-N 400

5-8

300 — 380 нм

воднощелочные растворы

Cтанд. сниматели

Microresist Technology ma-N 1400

0,5-3

300 — 410 нм

воднощелочные растворы

Cтанд. сниматели

Условия поставки

Резисты для сухого травления поставляются под заказ

Упаковка

Фоторезисты упакованы в бутылки и банки различного объёма

Хранение и транспортировка

Срок годности и условия хранения резистов для сухого травления указаны в техническом описании на данные продукты. Заморозка резистов недопустима.