В современном мире высокотехнологичного производства нельзя оставлять без внимания такой важный технологический процесс, как очистка деталей от промышленных загрязнений после изготовления или между технологическими операциями. Современные производители, следуя мировой тенденции повышения эффективности производства, все чаще оказываются перед нелегким выбором технологичного оборудования для промышленной очистки и задачей по организации эффективного процесса очистки. Как очистить деталь сложной конфигурации? Как обеспечить экологичность и безопасность процесса очистки? Какое оборудование для очистки и мойки деталей самое эффективное? Наша конференция даст ответы на эти и другие актуальные вопросы в области промышленной очистки деталей.
Уважаемые коллеги!
25 ноября 2014 года Группа компаний Остек приглашает вас принять участие в конференции «Современные тенденции в промышленной очистке деталей».
Основная цель конференции – познакомить участников с оборудованием и жидкостями для промышленной очистки, рассказать о самых современных решениях в области промышленной очистки деталей от загрязнений, а также поделиться опытом передовых зарубежных производств.
Рассматриваемые вопросы:
Участие в конференции бесплатное.
Место проведения:
Москва, офис Группы компаний Остек, ул. Молдавская, д 5. стр. 2.
Время проведения:
с 09:00 до 16:00, начало регистрации в 9:30.
Вы можете зарегистрироваться на мероприятие любым из представленных ниже способов:
*При регистрации по электронной почте и факсу указывайте: название мероприятия, Ф.И.О., должность, название предприятия и контактный телефон.
Заявки на участие принимаются до 21 ноября 2014 г.
Будем рады видеть вас и ваших коллег в числе участников конференции!
Время
Длит., мин
Тема
9:30 – 10:00
30
Регистрация участников
10:00 – 10:15
15
Вступительное слово
Вячеслав Ковенский
ГК Остек
10:15 – 10:35
20
Современные тенденции в промышленной очистке деталей в России
Алексей Стахуров
ГК Остек
10:35 – 11:15
40
Презентация компании и оборудования для промышленной очистки
Фабио Кордаро
Amsonic
11:15 – 11:30
15
Кофе-пауза
11:30 – 12:10
40
Презентация компании и жидкостей для прецизионной очистки деталей
Олаф Шонфельд
Zestron
12:10 – 12:55
50
Обзор вакуумных систем очистки с применением модифицированных спиртов Zestron VD
Денис Поцелуев
ГК Остек
13:00 – 14:00
60
Обед
14:00 – 14:40
40
Обзор ультразвуковых и струйных систем для промышленной очистки деталей
Фабио Кордаро
Amsonic
14:40 – 15:10
30
Жидкости на водной основе: современные решения в промышленной очистке
Томас Мюллер
Zestron
15:10 – 15:40
30
Вопросы и ответы. Подведение итогов. Обратная связь
Москва, офис Группы компаний Остек, ул. Молдавская, д 5. стр. 2.
25 Ноября 2014 — 25 Ноября 2014
- 9:00-16:00