Вебинар «Современные материалы для процессов литографии в микроэлектронике»

Уважаемые разработчики и производители изделий полупроводниковой электроники!

Приглашаем вас и ваших коллег принять участие в вебинаре по вопросам современных материалов для процессов литографии в микроэлектронике.

Темы вебинара:

1. Плазмостойкие электронные резисты
2. Фоторезисты общего применения
3. Толстые фоторезисты для МЭМС и гальванического осаждения металлов 
4. Устойчивость фоторезистов в плазме
5. Полимерные защитные покрытия для полупроводниковых пластин 
6. Резисты для обратной литографии
7. Резисты для импринтной литографии 
8. Новые сниматели фоторезистов

Докладчик:

Александр Скупов, главный специалист отдела технического сопровождения ООО «Остек-Интегра».

Дата проведения вебинара: 12 ноября 2020 г. в 15:00

Регистрация:

Для участия в вебинаре 12 ноября 2020 г. регистрируйтесь по ссылке.

Вопросы по участию в вебинаре и уточнению подробной информации направляйте на эл. почту: materials@ostec-group.ru или по телефону: +7 (495) 788-44-44 (доб.: 6340), начальник группы микроэлектроники ООО «Остек-Интегра» Галушко Алексей Валериевич.