Компания ZESTRON продемонстрировала отмывочные жидкости с нейтральным pH на выставочно-технологическом форуме SMTA в Коннектикуте

Компания ZESTRON, занимающая лидирующие мировые позиции в сфере прецизионных жидкостей для отмывки, обслуживания и обучающих решений в электронной промышленности, представила новейшие отмывочные жидкости с нейтральным pH на выставочно-технологическом форуме SMTA в Коннектикуте (SMTA Connecticut Expo and Tech Forum).

В 2009 году компания ZESTRON первой вывела на рынок инновационные отмывочные жидкости с нейтральным pH для удаления остатков флюса с поверхностей печатных плат, силовой электроники и полупроводников. Кроме VIGON^® N 600, новейшие растворы на водной основе включают VIGON^® PE 180 и HYDRON^® SE 220.

Раствор VIGON^® PE 180 представляет собой отмывочную жидкость на водной основе, разработанную для использования в оборудовании струйной отмывки в воздухе. Она позволяет удалять остатки флюса с выводных рамок, дискретных схем, модулей питания и светодиодных индикаторов питания после прикрепления кристалла и/или пайки теплоотвода. Данная отмывочная жидкость предназначена для удаления оксидных пленок с медных поверхностей при подготовке к последующим процессам.

Раствор HYDRON^® SE 220 представляет собой однофазное отмывочное средство на водной основе, специально разработанное для использования в процессах погружения и ультразвукового воздействия. Он позволяет удалять остатки флюса с самых различных приборов полупроводниковой электроники. Данный раствор легко смывается и оставляет поверхность, обладающую оптимальными характеристиками для проведения последующих процессов, таких как присоединение проволочных выводов и прессование, обеспечивая отличную совместимость материалов.