Новые высокотемпературные фоторезисты от Allresist

Компания Allresist продолжает разработки фоторезистов для специальных применений. В настоящие время для заказа доступны экспериментальные образцы резистов для высокотемпературного применения: SX AR-N 4340/7 — негативный резист, SX AR-P 3500/8 — позитивный резист.

Оба материала стабильны до 300 °C и могут применяться в качестве масок для ионной имплантации, плазмохимического травления и взрывной литографии с формированием слоёв при повышенной температуре (например, PE CVD).

Материалы доступны для заказа в фасовках 100 мл, 350 мл, 1 л.