Приглашаем принять участие в вебинаре «Современные материалы для процессов литографии в микроэлектронике»
Уважаемые разработчики и производители изделий полупроводниковой электроники!
Приглашаем вас и ваших коллег принять участие в вебинаре по вопросам современных материалов для процессов литографии в микроэлектронике.
Темы вебинара:
- Плазмостойкие электронные резисты
- Фоторезисты общего применения
- Толстые фоторезисты для МЭМС и гальванического осаждения металлов
- Устойчивость фоторезистов в плазме
- Полимерные защитные покрытия для полупроводниковых пластин
- Резисты для обратной литографии
- Резисты для импринтной литографии
- Новые сниматели фоторезистов
Докладчик:
Александр Скупов, главный специалист отдела технического сопровождения ООО «Остек-Интегра».
Дата проведения вебинара: 12 ноября 2020 г. в 15:00
Регистрация:
Для участия в вебинаре 12 ноября 2020 г. регистрируйтесь по ссылке.
Вопросы по участию в вебинаре и уточнению подробной информации направляйте на эл. почту: materials@ostec-group.ru или по телефону: