Назад
Всегда рады ответить на все ваши вопросы
materials@ostec-group.ru

Материалы для формирования слоёв и легирования

Гранулы и мишени металлов используют для формирования тонких плёнок методами физического осаждения (напыление, магнетронное распыление). Атомно-слоевое осаждение (ALD) тонких плёнок металлов и диэлектриков возможно с использованием металл-органических прекурсоров. Для создания тонких плёнок диэлектриков используют прекурсоры для CVD-осаждения. Для легирования – специальные реагенты и планарные источники диффузии.
Еще фильтры
{{ activeItem?activeItem.NAME:'Фильтр' }}
{{item.NAME}}{{item.SELECTED_ITEMS.length>2?'Выбрано: '+ item.SELECTED_ITEMS.length:''}}{{index!=0?', '+el.VALUE:el.VALUE}}

Обзор

Физическое осаждение материалов из паровой фазы (Phisical Vapor Deposition - PVD) широко используется в микроэлектронике, оптике, производстве солнечных батарей и в других производствах, где требуется формировать тонкие однородные плёнки толщиной от нескольких нанометров до единиц микрон.

Основными методами формирования плёнок физическим осаждением являются: термовакуумное испарение, магнетронное распыление и электронно-лучевое испарение. В каждом методе могут быть использованы одни и те же материалы, но в разной форме.

Для термовакуумного испарения используются пеллеты, проволока, кусочки и т.п. мелкие фрагменты материала, которые нагреваются с помощью специального нагревательного элемента, в результате чего происходит сублимация данных материалов и осаждение паров на подложке с более низкой температурой.

Для магнетронного распыления используются специальные мишени, которые бомбардируются ионами тяжёлых газов, в результате чего из мишени выбиваются атомы входящего в её состав вещества, которые затем осаждаются на подложку.

В случае электронно-лучевого испарения, пары вещества, осаждаемого на подложку, формируются при помощи локального нагрева мишени мощным пучком электронов.

Конкретный метод, который применяется для формирования тонкой плёнки физическим осаждением, зависит от желаемых свойств получаемой плёнки, а также от вещества. Но общим для всех методов формирования тонких плёнок является требование к высокой чистоте используемых материалов.

Группа компаний Остек предлагает высококачественные материалы от ведущих мировых производителей, предназначенные для напыления. Материалы доступны в любой форме, требуемой для конкретного метода формирования тонких плёнок.

Остались вопросы?
Задайте их, и мы ответим в ближайшее время
Задать вопрос