Регистрация Вспомнить пароль

Материалы для литографии

Материалы

Файлы для скачивания

Для создания топологического рисунка на пластине в производстве интегральных микросхем и других изделий микроэлектроники используются различные литографические процессы. Фотолитография является ключевым и самым сложным процессом в производстве полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Существуют различные виды фотолитографии, отличающиеся видами используемого оборудования и физическим процессом, ответственным за формирование изображения (фотолитография – проекционная и контактная, электронная, рентгеновская, импринтная). Для каждого вида литографии существуют специально оптимизированные фоторезисты.

С помощью фотолитографии изготавливаются формы плоской печати, переносящей детали фотошаблона на слой фоторезиста, чувствительный к излучению в ультрафиолете или видимом спектре. Фоторезисты подразделяются на негативы и позитивы. Они наносятся путем центрифугирования, возгонки или напыления на поверхность диэлектрика или полупроводника и высушиваются. Затем производится экспонирование через фотошаблон с помощью лазеров или ртутных ламп. После проявления облученный (на позитиве) или необлученный (на негативе) фоторезист удаляется, а оставшийся рельефный рисунок проходит термическую обработку, увеличивающую его прочность. Завершается обработка рядом сложных высокотехнологичных операций.

Очень важным является использовать фоторезисты фп и сопутствующие им реагенты (проявители, сниматели), совместимые с технологическими процессами, производимыми над пластиной после экспонирования. Поэтому мы подразделяем резисты по различным применениям, в каждом из которых собраны группы материалов, обладающих сходными характеристиками.

Другие материалы нашего каталога: полупроводниковые пластины.


Скачивание файлов доступно только для авторизованных пользователей

Microchemicals Lithography Trouble Shooter PDF, 1.88 Мб
Aluminium Etching PDF, 324 Кб
Anti-Reflective- Coatings for Resists PDF, 484 Кб
Chromium Etching PDF, 235 Кб
Development of Photoresists PDF, 130 Кб
Dip Coating of Photoresists PDF, 68 Кб
Dry Etching with Photoresist Masks PDF, 472 Кб
Electroplating with Photoresist Masks PDF, 2.01 Мб
Exposure of Photoresists PDF, 525 Кб
Gold Etching PDF, 375 Кб
Greyscale Lithography with Photoresists PDF, 212 Кб
Hardbake of Photoresist Structures PDF, 82 Кб
Etching with Hydrofluoric Acid PDF, 83 Кб
High-Resolution Photoresist Processing PDF, 257 Кб
Processing image reversal resists PDF, 188 Кб
Laser-Exposure of Photoresists PDF, 127 Кб
Lift-off Processes with Photoresists PDF, 570 Кб
Lithography process startup PDF, 33 Кб
Lithography Trouble-Shooter PDF, 239 Кб
Baking Steps in Photoresists Processing PDF, 228 Кб
Photoresist Coating Techniques PDF, 86 Кб
General Properties of AZ®/TI Photoresists PDF, 129 Кб
Rehydration of Photoresists PDF, 105 Кб
Photoresist Removal PDF, 75 Кб
Optical Parameters of Photoresists PDF, 214 Кб
Storage, Ageing, Refilling, and Dilution of Photoresists PDF, 726 Кб
Reflow of Photoresist PDF, 603 Кб
(Inferior) Resist Adhesion PDF, 66 Кб
Resists, Developers and Removers PDF, 476 Кб
Wet-Chemical Etching of Silicon PDF, 1.97 Мб
Softbake of Photoresist Films PDF, 59 Кб
Solvents: Theory and Application PDF, 343 Кб
Spin Coating of Photoresists PDF, 593 Кб
Spray Coating of Photoresists PDF, 460 Кб
Substrate Cleaning Adhesion Photoresist PDF, 90 Кб
Thick Resist Processing PDF, 811 Кб
Wet Chemical Etching PDF, 116 Кб
Сравнительная таблица фоторезистов PDF, 119 Кб