Компания RFMD представила первые в мире 150-мм полупроводниковые пластины нитрида галлия на карбиде кремния (GaN на SiC) для производства силовых ВЧ-транзисторов

04.10.2013
Компания RFMD, разработчик и производитель ВЧ-компонентов с высокими рабочими характеристиками, представила первые в мире 150-мм полупроводниковые пластины из нитрида галлия на карбиде кремния (GaN на SiC) для производства силовых ВЧ-транзисторов для коммерческого и военного применения. Для сокращения затрат по выпуску устройств для растущего рынка GaN приборов, компания переводит все свое производство и разработки c применением GaN на пластины диаметром 150 мм, используя для этого мощности своего существующего предприятия по серийному выпуску устройств по технологии GaAs.

Согласно данным, полученным от отраслевой аналитической компании Strategy Analytics, рынок микроэлектроники на базе нитрида галлия к 2017 году ожидает более чем трехкратный рост - до объема в 334 млн долл., при этом годовой темп роста составит 28%. Такой подъем рынка вызван ростом как оборонных (радары, радиоэлектронная война, связь), так и коммерческих (управление энергопотреблением, сотовая связь, кабельное телевидение, наземные подвижные системы радиосвязи) применений.

Технология GaN поддерживает широкие диапазоны частот и высокие значения напряжения пробоя при малой занимаемой площади. 150-мм пластина GaN обладает в 2,5 раза большей полезной площадью по сравнению с применяемыми в настоящее время платформами на основе 100-мм пластин, в результате чего можно получить с пластины в 2,5 раза больше силовых ВЧ-устройств. Увеличенная площадь пластины и соответственно меньшая стоимость единицы площади (в долларах на кв. мм) делает возможным создание доступных по цене и обладающих высокими рабочими характеристиками монолитных ИС СВЧ-диапазона для военных и коммерческих применений. Компания RFMD ожидает завершить сертификационные испытания своих 150-мм платформ GaN в 2014 году.

Источник: http://electroiq.com