Компания ZESTRON продемонстрировала новые технологические растворы с нейтральным pH на выставке и техническом форуме SMTA Intermountain Expo

Компания ZESTRON, мировой лидер в производстве прецизионных средств для отмывки, разрабатывающая сервисные решения и курсы обучения для изготовления электроники, продемонстрировала свои новейшие отмывочные жидкости с нейтральным показателем кислотности на выставке и техническом форуме SMTA Intermountain Expo в Университете штата Айдахо, расположенном в Бойсе (г. Бойсе, шт. Айдахо, США).

Компания ZESTRON предлагает инновационные отмывочные жидкости с нейтральным pH с 2009 года. Помимо раствора VIGON^® N 600, созданного для удаления флюса с печатных плат, последние разработки включают в себя растворы VIGON^® PE 180 и HYDRON^® SE 220, предназначенные для удаления флюса с силовой электроники и полупроводников.

Раствор VIGON^® PE 180, созданный на основе технологии MPC^® (микрофазной очистки), представляет собой отмывочную жидкость на водной основе, разработанную для использования в оборудовании с технологией струи в воздухе. Он позволяет удалить остатки флюса с выводной рамки, дискретных схем, модулей питания и светодиодных индикаторов питания за прикреплением кристалла и/или пайкой теплоотвода. Данный химический состав предназначен для удаления оксидной пленки с медных поверхностей при подготовке последующих процессов.

Раствор HYDRON^® SE 220 — это однофазная отмывочная жидкость на водной основе, специально разработанная для использования в процессах погружения и ультразвукового воздействия. Он позволяет удалить остатки флюса с самых различных приборов полупроводниковой электроники. Данный раствор легко смывается и оставляет поверхность, обладающую оптимальными характеристиками для проведения последующих процессов, таких как присоединение проволочных выводов и прессование, обеспечивая отличную совместимость материалов.