Компания Остек-Интегра расширила линейку предлагаемых резистов из Китая для литографии в глубоком ультрафиолете (ГУФ) для длины волны 248 нм
26.12.2024
Литография на длине волны 248 нм относится к технологии глубокого ультрафиолета, которая обеспечивает высокую точность и разрешение при создании микросхем. Использование этой длины волны позволяет достигать разрешения до 120 нм, что является критически важным для миниатюризации компонентов и повышения производительности интегральных схем.
Линейка включает все продукты для создания ключевых элементов топологии интегральных микросхем – элементы транзистора, изоляция, контакты, межслойные переходные отверстия и проводники. Всё это открывает новые возможности для разработки более мощных и компактных электронных устройств, способствуя дальнейшему развитию технологий в области микроэлектроники.